חנקן בטוהר- גבוה משמש כגז מגן ונשא בייצור מעגלים משולבים, מוליכים למחצה והתקני ואקום אלקטרוניים; הוא משמש כגז נשא בתצהיר אדים כימי; הוא נושא את הגז במקורות דיפוזיה נוזליים; והוא פועל כגז מגן למכשירים בתנורי דיפוזיה- גבוהים.
חנקן בטוהר- גבוה משמש כגז לעקירה, ייבוש, אחסון והובלה בתהליכים כגון אפיטקסיה, פוטוליטוגרפיה, ניקוי ואיוד. נדרש טוהר חנקן של 99.99% ומעלה בייצור צינורות קרן קתודית. בטכנולוגיית תעופה וחלל, תחילה יש לטהר מערכות תדלוק מימן נוזלי בחנקן -טוהר, ואחריו הליום בטוהר- גבוה.
בדצמבר 2025, מינהל המדינה לתקנת שוק אישר ושחרר את החומר הסטנדרטי הלאומי לחנקן בטוהר- גבוה, המשמש בתהליכי מפתח כגון ניקוי, תחריט ותצהיר בייצור מכשירי מוליכים למחצה, כמו גם בתהליכים כגון פוטוליתוגרפיה, השתלת יונים וחמצון בייצור מעגלים משולבים.